Please use this identifier to cite or link to this item:
https://hdl.handle.net/11499/35267
Title: | CdIn2Se3,2Te0,8 yarıiletken ince filmlerinin yapısal ve taşınım özellikleri üzerine tavlama etkisinin araştırılması | Other Titles: | Investigation annealing effect on structural and transport properties of CdIn2Se3,2Te0,8 thin films | Authors: | Şahin, Alirıza | Advisors: | Karabulut, Orhan | Keywords: | İnce Film Tavlama CdIn2Se3,2Te0,8 Termal Buharlaştırma Thin Film Annealing Thermal Evaporation |
Publisher: | Pamukkale Üniversitesi Fen Bilimleri Enstitüsü | Abstract: | Bu çalışmada; CdIn2Se3,2Te0,8 ince filmleri termal buharlaştırma yöntemi ile cam alttaşlar üzerine büyütülmüştür. Üretilen ince filmler 300 ºC, 400 ºC ve 500 ºC sıcaklıklarında tavlanarak, yapısal, elektriksel ve optik özellikleri, XRD, SEMEDS, sıcaklığa bağlı elektriksel iletkenlik ve optik soğurma ölçümleri ile araştırılmıştır. Yapısal analizler sonucunda üretilen filmlerin tetragonal yapıda olduğu ve tavlama etkisine bağlı olarak daha düzenli bir yapıya geçtikleri gözlemlenmiştir. Filmlerin elektriksel özelliklerinin belirlenebilmesi için, sıcaklığa bağlı elektriksel iletkenlik ölçümleri kullanılmıştır. Yapılan ölçümler sonucunda, tavlamaya bağlı olarak filmlerin özdirençlerinde küçük bir düşüş gözlenmiştir. Tavlanmamış, 300 ºC, 400 ºC ve 500 ºC’ de tavlanan filmlerin özdirençleri sırası ile, 3,61x103 (?-cm), 3,59x103 (?-cm), 3,57x103 (?-cm) ve 3,56x103 (?-cm) olarak ölçülmüştür. Son olarak, filmlerin yasak enerji aralıkları UV-VIS spektrometresinde 190-1100 nm aralığında incelenmiştir. Tavlamaya bağlı olarak filmlerin yasak enerji aralıklarının 2,17 eV’den 1,95 eV’ ye düştüğü gözlemlenmiştir. In this study, CdIn2Se3,2Te0,8 thin films were deposited on glass substrates by thermal evaporation method. The structural, electirical and optical properties of deposited thin films, annealed at 300 ºC, 400 ºC and 500 ºC, were investigated by, XRD, SEM-EDS, temperature dependent electrical conductivity and absorption measurements. Structural measurements indicated that films were tetragonal structure and crystallization of the films increased with annealing temperatures. Temperature dependent conductivity measurements were used to determine electrical properties of the films. It was revealed that a small decrease in resistivity was observed depending on annealing process. The electrical resistivities of ‘as-deposited’ and annealed at 300 ºC, 400 ºC, 500 ºC thin films have been measured 3,61x103 (?-cm), 3,59x103 (?-cm), 3,57x103 (?-cm) and 3,56x103 (?-cm) respectively. The optical band gaps of thin films were determined by UV-VIS spectroscopy in wavelength range 190-1100 nm. Band gap values were found to be decreasing from 2,17 eV to 1,95 eV with increase of annealing temperature. |
URI: | https://hdl.handle.net/11499/35267 |
Appears in Collections: | Tez Koleksiyonu |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
10272241.pdf | 2.37 MB | Adobe PDF | View/Open |
CORE Recommender
Page view(s)
82
checked on Aug 24, 2024
Download(s)
68
checked on Aug 24, 2024
Google ScholarTM
Check
Items in GCRIS Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.